出水量0.25-100吨
工作压力0.5-1.2MPa
出水水质10-0.055ux/cm
加工定制定制
规格型号PJ-RO-EDI-2000
是否进口否
工作原理反渗透/净水
全自动控制全自动
用途范围医院、食品厂、化工厂、纺织厂等
压力常压
工作温度0-40℃
除盐率99％
适用水源各类地表 地下水
半导体超纯水设备制备
1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线器→抛光混床→精密过滤器→用水点（≥18MΩ.CM）(传统工艺)
2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点（≥18MΩ.CM）(工艺)
3、预处理→一级反渗透→加药机（PH调节）→中间水箱→*二级反渗透（正电荷反渗膜）→纯水箱→纯水泵→EDI装置→紫外线器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点（≥17MΩ.CM）(工艺)
4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→EDI装置→纯水箱→纯水泵→紫外线器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点（≥15MΩ.CM）(工艺)
5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线器→精密过滤器→用水点 （≥15MΩ.CM）(传统工艺)
水质标准：
半导体超纯水设备，超纯水设备，超纯水处理设备出水水质符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业电子级水质技术标准（18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm）我国电子工业超纯水水质试行标准、半导体工业用纯水指标、集成电路水质标准。
半导体超纯水设备，超纯水设备，超纯水处理设备的应用领域：
电解电容器生产铝箔及工作件的清洗； 超纯水设备,超纯水设备,硅片超纯水设备
电子管生产、显像管和阴射线管生产配料用纯水；
黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水；
生产液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液；
晶体管生产中纯水主要用于清洗硅片；
集成电路生产中高纯水清洗硅片；
半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水；
半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗；
显像管、萤光粉生产；
汽车、家电表面抛光处理。
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