出水量0.25-100吨
工作压力0.5-1.2MPa
出水水质10-0.055ux/cm
加工定制定制
规格型号PJ-RO-EDI-2000
是否进口否
工作原理反渗透/净水
全自动控制全自动
用途范围医院、食品厂、化工厂、纺织厂等
压力常压
工作温度0-40℃
除盐率99%
适用水源各类地表 地下水
电池行业用超纯水系统
1、种电池行业用超纯水采用离子交换树脂其优点在于初投资少,占用的地方少,但缺点就是需要经常进行离子再生,耗费大量酸碱,而且对环境有一定的破坏性。
2、*二种电池行业用超纯水采用两级反渗透设备,其特点为初投次比采用离子交换树脂方式要高,但无须树脂再生。其缺点在于相关膜原件需定期清洗或更换,电池行业用超纯水质相对来说不是太高,大都只能做到1us/cm左右,所以在不是要求更高的时候常采用一级反渗透后面再用混床(阴阳复床)把关。
3、*三种电池行业用超纯水采用反渗透作预处理再配上电去离子(EDI)装置,这是目前制取电池行业用超纯水经济,环保的超纯水制备工艺,不需要用酸碱进行再生便可连续制取超纯水,对环境没什么破坏性。其缺点在于初投资相对以上两种方式过于昂贵
电子、半导体工业的芯片生产在制作过程中,往往需要使用其纯净的超纯水。如果纯水水质达不到生产工艺用水的要求或者水质不稳定的话,会影响到后续工艺的处理效果和使用寿命。此外,晶元清洗和机械碾磨过程中都会产生废水,造成对环境的污染。
通过使用超滤、反渗透、EDI和核子级离子交换系统来生产满足需求的超纯水。并将生产过程中所产生的废水经过膜系统的处理进行回收再利用,在很大程度上减少了电子、半导体行业的用水量、降低了生产成本行业纯水设备技术方案工业纯水设备技术维修反渗透纯净水设备方案设计
微电子行业包括了电解电容器生产、电子管生产、显像管和阴射线管生产、黑白显像管荧光屏生产、液晶显示器的生产、晶体管生产、集成电路生产、电子新材料生产等生产工艺,都需要工业超纯水。传统化学及介质过滤生产超纯水的方法,会因在水中添加化学剂,制备过程冗长等因素造成产水的不稳定,无法确保长期、稳定的超纯水。行业纯水设备技术方案工业纯水设备技术维修反渗透纯净水设备方案设计
采用“物理”净化法(超滤→反渗透→EDI→抛光混床),使超纯水制备从传统的阳离子交换器、脱碳、阴离子交换器、复合离子交换器等发生了一次革命,从此进入了一个无需再生化学品的时代。膜法制备出来的工业纯水,其纯度可达到18MΩ·CM,且系统稳定,使用寿命长,且生产过程所产生的废水又可回用再生。
系统特点:
*该系统由单片机(PLC)控制,一切动作均在预设程序下自动进行,具备全自动功能(自动制水、自动冲洗、源水缺水/水箱满水自动停机)。
*系统结构布置紧凑,占地面积小,有效节约空间。
*系统能耗低,有效节约能源。
*耗材寿命长,制水。
*系统运行可靠,供水管路封闭,出水水质稳定。
工艺简介:
本工艺由以下部分组成:预处理、双级反渗透(DRO)、连续电除盐(EDI)、紫外线(UV)、抛光混床(MB)、终端微滤(MF)。
预处理部分由多介质过滤器、活性炭过滤器和全自动软水器组成。
反渗透装置主要由高压泵、反渗透膜和控制部分组成。
反渗透技术是一种率、低能耗能、无污染的技术,主要应用于纯水制备与海水淡化。反渗透技术是利用压力差为动力的膜分离过滤技术,通过压力差将H2O与源水中的无机盐、重金属离子、有机物、胶体、、等杂质严格分离。
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